


一、镀膜过程中膜厚读数出现大的跳动的原因及分析
1. 晶振片损坏导致模式跳跃。
解决方法:更换全新的晶振片。
2. 膜料应力过大,导致镀膜层从晶振片表面剥离,形成翘层。
解决方法:更换全新的晶振片。
3. 来自蒸发源(坩埚)的微颗粒或溅射物、杂质打击到晶振片上。
解决方法:在镀膜前彻底清理蒸发源的材料杂质,预融时延长挡板打开时间。
4. 晶振片的基座(探头帽)表面存在小颗粒或外来微粒(基座异常)。
解决方法:使用弱酸清洗或抛光基座表面,确保晶振片与底座接触良好。
5. 小块材料落在晶振片上(晶振片一面面向蒸发源)。
解决方法:检查晶振片表面是否有颗粒杂质,使用清洁气体将其吹净。

二、镀膜过程中晶体停止振荡的原因及分析
1. 原因:来自蒸发源的微粒或“溅料”“杂质”打击晶体。
解决方法:在镀膜前彻底清理蒸发源的材料杂质,并延长挡板打开时间。
2. 原因:晶振片基座(探头帽)上膜料厚积,掩盖了晶振片露出的监测孔。
解决方法:使用弱酸清洗晶振片基座(探头帽)。
3. 原因:存在电路短路或开路。
解决方法:使用万用表检查传感器电缆到膜厚仪中间的连接,确保电缆没有松动,各连接件的接触良好,接触弹片正常,传感器内部连接线以及馈入件的电连通。
4. 原因:由于高温产生的电路短路或开路。
解决方法:使用万用表检查传感器电缆到膜厚仪中间的连接,确保电缆没有松动,各连接件的接触良好,接触弹片正常,传感器内部连接线以及馈入件的电连通。

三.晶体不振荡或间歇振荡(在真空或大气中)的原因及分析
1.弹片与晶振片之间间歇接触或接触不良(接触点氧化)。
解决方法:使用万用表检查电连通情况,阻值应小于1欧姆,清洗弹片接触点。
2.弹片已经失去弹力,变形,或断脚现象,以及弹片与陶瓷圈之间松动。
解决方法:将弹片扳弯角度大约45度,或者更换新的陶瓷三角片。
3.来自蒸发源的射频干扰。
解决方法:检查接地线,使用符合射频接地的接地铜带,改变仪器与振荡器的位置,远离射频电源线,将仪器连接到不同的供电电源。
4.电缆/振荡器没有连接好,或者连接到错误的传感器输入端。
解决方法:检查连接和与编程的传感器参数相关的输入是否正确。
四.晶体在真空中振荡,但在大气中停止振荡的原因及分析
1.晶振片接近终止寿命,当暴露在空气中时,膜层会氧化并增加应力。
解决方法:更换新的晶振片。
2.破真空时,大量潮气会聚集在晶振片表面,可能是由于冷却水流量小或冷却效果不佳所致。
解决方法:在系统破真空之前,延长冷却时间;定期保养冷却水管,使用弱酸或压缩空气清除内壁水垢。
"五. 在晶体中,振荡在大气中进行,但在真空中停止的原因及分析
1. 这种现象是由于探头基座(无论是单个探头还是多个探头)内部的接触弹片变形、断裂或接触不良,而不是晶振片本身的问题。
解决方法:检查晶振片探头的接触部位,更新或使用镊子进行调整,以确保良好接触。
2. 当离子源未调节好时,会导致过量的带电离子瞬间击穿晶振片,在晶振片表面形成点击花纹。
解决方法:调节中和器,使带电离子充分中和为分子。"
